オランダのエンスヘデに本社を置く、2018年設立のレーザー製造企業です。最先端のフォトニック集積回路（PIC）技術を基盤とした広帯域可変、狭線幅のレーザーを開発・商業化しており、これらのレーザーは、コヒーレント光通信、ファイバーセンシング、LiDAR、量子鍵配送、マイクロ波フォトニクスなど、多岐にわたる最先端のアプリケーションを支えています。
ハイブリッド集積型外部共振器レーザー(ECL)技術を採用し、広帯域可変で超狭線幅のレーザーを提供しています。インジウムリン(InP)製の反射型半導体光増幅器(RSOA)を増幅媒体とし、シリコン窒化物(Si₃N₄)製の導波路回路を外部共振器として組み合わせています。RSOAは外部共振器にエッジ結合されており、共振器内のわずかに異なる自由スペクトル範囲(FSR)を持つ2つの結合マイクロリング共振器(MRR)が、ヴェルニエ効果により安定した単一周波数動作を実現します。ヒーター素子を用いてマイクロリング共振器を2πの位相シフトで調整することで、増幅帯域内の任意の波長にも対応可能です。
低損失で長い光学キャビティ長により、高出力(20mW以上)と超狭線幅(1kHz未満)を達成しています。

取扱製品一覧

波長可変レーザー

掃引光源レーザー

周波数安定化レーザー